자료유형 | 단행본 |
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서명/저자사항 | 다결성 실리콘 제조를 위한 화학적 가열기술= Chemical heating technology for preparation of polysilicon/ 과학기술처 編. |
개인저자 | 김희영 전종열 김형천 이재송 |
단체저자명 | 한국. 과학기술처. 화학연구소. |
발행사항 | 과천: 과학기술처, 1997. |
형태사항 | 97 p.: 삽화,챠트; 27 cm. |
총서사항 | 화학공정 기반 기술개발 사업=Development of main technology for chemical process. |
일반주기 |
연구기관: 한국화학연구소
총괄연구책임자: 김희영, 연구자: 전종열, 김형천, 이재송 외 |
서지주기 | 참고문헌포함 |
분류기호(DDC) | 540 |
언어 | 한국어 |
보존/밀집/기증 자료 신청 분관대출 서가부재도서 무인예약대출 배달서비스 소장위치출력
No. | 등록번호 | 청구기호 | 소장처 | 밀집번호 | 도서상태 | 반납예정일 | 예약 | 서비스 | 매체정보 |
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1 | 50101290 | RT 540 한17ㅇㅎ 97-12 c.2 | 여수캠퍼스도서관/밀집서고/ | VYA305763 | 대출가능 | ||||
2 | 545562 | 540 한17ㅇㅎ 97-12 | 중앙도서관[별관]/보존자료실/ | Y4123822 | 대출가능 |
1, 서론. -- 2, 국내의 기술개발 현황. -- 3, 화학적 가열 방법 및 열역학적 해석. -- 4, 실리콘의 발열 반응에 대한 속도론적 연구. -- 5, 화학적 가열 방법의 활용방법. -- 6, 결론. -- 7, 연구개발 목표 달성도 및 대외 기여도. -- 8, 연구개발 결과의 활용 계획. -- 9, 참고문헌. -- 10, 부록: 열역학 평형 상태에...